技術(shù)編號：3465667
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及多晶硅生產(chǎn)的多晶硅還原爐及其相應(yīng)的操作方法，特別是一 種可以實現(xiàn)多晶硅還原爐內(nèi)部全混流的新型還原爐和操作方法。背景技術(shù)目前，國內(nèi)外生產(chǎn)多晶硅的主要工藝技術(shù)是改良西門子法。該工藝技術(shù)的核心 步驟——三氯氫硅的還原反應(yīng)，是在多晶硅還原爐內(nèi)進行的高純的三氯氫硅和氫氣按比 例混合后通入多晶硅還原爐，在一定的溫度(1080°C 1150°C )和壓力下，在通電高溫硅 芯上發(fā)生沉積反應(yīng)，生成多晶硅棒狀產(chǎn)品。一般而言，傳統(tǒng)多晶硅還原爐的進、出口均設(shè) 在還原爐的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。