技術(shù)編號(hào):3472444
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的題目是原位產(chǎn)生碳酰氟化物或其任何變異體的分子蝕刻劑的方法及其應(yīng)用。根據(jù)本發(fā)明,分子蝕刻劑碳酰氟化物COF2被提供以作為增加蝕刻和/或清潔和/或移除材料的效率。本發(fā)明的方法涉及激發(fā)與維持一電漿,無(wú)論其是遠(yuǎn)程或原位,藉由逐步方式加入添加物,例如但不限于,飽和、不飽和、或部分不飽和且具有分子式CyFz的全氟碳化合物和/或碳氧化物(COx)至三氟化氮電漿,進(jìn)入化學(xué)氣相沉積腔室之中,進(jìn)而產(chǎn)生碳酰氟化物COF2。三氟化氮可在化學(xué)氣相沉積腔室中的電漿中進(jìn)行激發(fā),...
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