技術(shù)編號:3489436
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種用于石墨烯形成的方法包括提供基底并使所述基底經(jīng)受減壓環(huán)境。所述方法還包括提供載氣和碳源并且使所述基底的至少一部分暴露于所述載氣和所述碳源。所述方法還包括在所述基底的所述至少一部分上進(jìn)行表面處理工藝并且使所述碳源的一部分轉(zhuǎn)變成布置在所述基底的所述至少一部分上的石墨烯。專利說明用于石墨烯形成的方法和系統(tǒng)[0001]相關(guān)申請的交叉引用[0002]本申請要求2012 年 2 月 24 日提交的題為 “Method for Forming Graphene at...
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