技術(shù)編號:3492748
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及含有在酸的作用下對堿顯影液的溶解性發(fā)生改變的基材成分(A)和通過曝光來產(chǎn)生酸的產(chǎn)酸劑成分(B)的抗蝕劑組合物,其特征在于,所述產(chǎn)酸劑成分(B)含有由下述通式(b1-1)表示的化合物形成的產(chǎn)酸劑(B1),式中,RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烴基;Q2和Q3分別獨立地為單鍵或2價的連接基團(tuán);Y1是碳原子數(shù)為1~4的亞烷基或氟代亞烷基;Z+是有機(jī)陽離子(但下述通式(w-1)表示的離子除外)。專利說明[0001]本申請是201210243584....
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。