技術(shù)編號(hào)：3710163
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及新型聚合物和此類聚合物作為光刻膠組合物(特別是在短波長(zhǎng)例如低于200nm、尤其是193nm時(shí)能夠有效成象的化學(xué)放大的正性作用抗蝕劑)的樹脂粘合劑組分的用途。本發(fā)明的聚合物含有特定摩爾比的腈和光致酸不穩(wěn)定基團(tuán)，所述基團(tuán)具有一脂環(huán)族部分，特別是橋連二環(huán)基團(tuán)或其它籠形基團(tuán)。光刻膠是用于將圖像轉(zhuǎn)印到基質(zhì)上的光敏膜。在基質(zhì)上形成光刻膠的涂層，然后通過光掩模將光刻膠層暴露于激活輻射源下。光掩模具有對(duì)激活輻射不透明的區(qū)域和對(duì)激活輻射透明的其它區(qū)域。暴露于激活輻...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。