技術(shù)編號(hào)：3769096
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于制備固體薄膜及半導(dǎo)體薄膜靶材，或直接制備薄膜的鋪涂干粉的設(shè) 備。背景技術(shù)陶瓷薄膜、半導(dǎo)體薄膜、以及相應(yīng)的薄膜器件的產(chǎn)業(yè)化制造技術(shù)，需要在大面 積襯底上沉積高純的單質(zhì)或化合物薄膜。而沉積這類薄膜所用的方法，如濺射、近空 間升華、熱蒸發(fā)等常常要用特定粉體材料經(jīng)燒結(jié)、壓制、蒸發(fā)、升華制成大面積的靶或 源，或者直接用粉體作源。這類粉體源實(shí)際上是一層厚度均勻的粉體層，在大多數(shù)情況 下，還要求它們具有特定的厚度。眾所周知，漿料易于涂敷成薄層，但是，鑒于有些材...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。