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超強光催化降解抗菌環(huán)保涂料制備方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:3817246

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本發(fā)明涉及一種。 背景技術(shù)由于二氧化鈦的光催化活性要在水和氧及紫外線的氛圍下才能 體現(xiàn)出來,在水和氧及紫外線很少的情況下,二氧化鈦的活性受到很大的影響。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于克服上述的缺陷,提供一種超強光催化降解抗 菌環(huán)保涂料制備方法。本發(fā)明的技術(shù)方案是 一種超強光催化降解抗菌環(huán)保涂料制備方法,其特征在于將0.5g納米二氧化鈦、30ml30。Z的硅溶膠、0.5g 納米硫化鎘一起加入到20%,六偏磷酸鹽溶液中充分分散后,形成納 米二氧化鈦、納米二氧化硅、納...
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