技術(shù)編號(hào):40425295
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及包括作為有機(jī)磨料材料的超分子化合物(例如,超分子組裝體)、或其同型物或其衍生物的用于化學(xué)機(jī)械拋光的漿料組合物以及包括例如使用該漿料組合物通過將半導(dǎo)體襯底(也稱為襯底)的表面或形成在襯底上的層的表面與拋光墊接觸的化學(xué)機(jī)械拋光的制造半導(dǎo)體器件的方法。背景技術(shù)、最近,隨著電子器件的小型化和所得的集成電路小型化,正在研究形成諸如具有幾納米寬度的金屬布線或淺溝槽隔離的微結(jié)構(gòu)的各種方法。、在形成微結(jié)構(gòu)的步驟中,可以執(zhí)行拋光工藝,以形成微結(jié)構(gòu)的平面和/或平坦表面。拋光工藝可以包括例如化學(xué)機(jī)械拋光...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。