技術(shù)編號：40428165
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及襯底臺、帶紋理的臺表面、以及在襯底臺表面上采用突節(jié)和納米結(jié)構(gòu)的方法。背景技術(shù)、光刻裝置是將期望圖案施加到襯底上(通常，施加到襯底的目標(biāo)部分上)的機(jī)器。光刻裝置可以被用于例如集成電路(ic)的制造中。在該示例中，圖案形成裝置(可選地被稱作掩模(mask)或掩模版(reticle))可以被用于生成待形成于ic的單個層上的電路圖案。該圖案可以被轉(zhuǎn)印到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括部分管芯、一個管芯、或多個管芯)上。圖案的轉(zhuǎn)印通常經(jīng)由到襯底上提供的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上的成...
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