技術(shù)編號：40429595
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本技術(shù)屬于掩模版加工，尤其涉及一種用于掩模版制程相鄰區(qū)域轉(zhuǎn)運裝置。背景技術(shù)、掩模版是制作微細光掩膜圖形的理想感光性空白板，通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版，簡單地說，光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版，由于掩模版屬于高精度的產(chǎn)品，各個區(qū)域的周轉(zhuǎn)傳輸容易產(chǎn)生灰塵，影響產(chǎn)品質(zhì)量，特別是光刻區(qū)與后處理區(qū)域之間的傳遞，現(xiàn)提出一種能夠有效防止掩模版轉(zhuǎn)運過程中其上吸附粘連灰塵的裝置。技術(shù)實現(xiàn)思路、針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型提供了一種用于掩模版制程相鄰區(qū)域轉(zhuǎn)運裝置，解決了上述問題。、...
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