技術(shù)編號：40429789
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開涉及一種半導(dǎo)體測量設(shè)備。背景技術(shù)、半導(dǎo)體測量設(shè)備可以是被配置為測量經(jīng)受半導(dǎo)體工藝的樣品中的圖案的臨界尺寸的設(shè)備，并且最近，已經(jīng)提出了不僅能夠測量臨界尺寸而且能夠捕獲在樣品中形成的圖案的實際形狀的圖像的測量設(shè)備。、以這種方式，被配置為捕獲圖案的實際形狀的圖像的測量設(shè)備可以以非破壞性的方式檢查圖案的結(jié)構(gòu)和形狀，但是可能存在視角和分辨率可能受限的問題，并且在權(quán)衡關(guān)系中，可能難以改善檢查操作的效率和精度。技術(shù)實現(xiàn)思路、本公開涉及一種半導(dǎo)體測量設(shè)備，該半導(dǎo)體測量設(shè)備包括使用通過用包括散斑圖案的...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。