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技術(shù)編號：40452109

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本技術(shù)涉及單晶爐排氣，具體的說是一種用于拉制大直徑晶棒的單晶爐排氣系統(tǒng)。背景技術(shù)、直拉單晶爐是單晶硅生產(chǎn)的主要設(shè)備，單晶爐的排氣孔設(shè)置在底部側(cè)壁或者設(shè)置在底盤上，氣體自坩堝內(nèi)經(jīng)加熱器與石墨內(nèi)膽之間的間隙流向排氣孔，最終經(jīng)排氣孔流出。但是，隨著吋、吋等大直徑單晶硅的發(fā)展，單晶爐設(shè)備的體積也在逐步增大，使拉晶過程中爐內(nèi)的雜質(zhì)具有更大的揮發(fā)面積，且單晶爐內(nèi)投料量的增加引起其運行時間延長，進而造成更多的揮發(fā)物從排氣孔內(nèi)排出，氣體攜帶揮發(fā)物經(jīng)加熱器與石墨內(nèi)膽之間的間隙流出時，會帶走熱量使氣體溫度...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。

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