技術(shù)編號:40457581
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本公開涉及氣體混合裝置、包括該氣體混合裝置的襯底處理系統(tǒng)以及使用該襯底處理系統(tǒng)的襯底處理方法,并且具體地,涉及被構(gòu)造為混合兩種或更多種氣體的氣體混合裝置、包括該氣體混合裝置的襯底處理系統(tǒng)以及使用該襯底處理系統(tǒng)的襯底處理方法。背景技術(shù)、制造半導(dǎo)體裝置的工藝包括各種工藝。例如,可通過光刻工藝、蝕刻工藝、沉積工藝和電鍍工藝來制造半導(dǎo)體裝置。在工藝中可利用氣體來制造半導(dǎo)體裝置。例如,在原子層沉積(ald)工藝中,氣體可被供應(yīng)到襯底上的區(qū)域。通常,兩種或更多種氣體可用于每個工藝。、兩種或更多種氣體可彼...
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