技術(shù)編號：40480789
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及輻射溫度測量系統(tǒng)(也稱為“高溫計(jì)”)，并且更具體地涉及具有改進(jìn)的低溫測量準(zhǔn)確度和應(yīng)用靈活性的高溫計(jì)電路設(shè)計(jì)。背景技術(shù)、高溫計(jì)是一種用于非接觸地測量固定物體或移動物體的溫度的遠(yuǎn)程感測溫度計(jì)。高溫計(jì)系統(tǒng)采用由普朗克方程定義的發(fā)射輻射的強(qiáng)度和源溫度之間的關(guān)系，該普朗克方程顯示由任何物體發(fā)射的輻射是其溫度、發(fā)射率和測量波長的函數(shù)。、高溫計(jì)系統(tǒng)可用于測量表面諸如在晶圓上形成集成電路(“ic”)時容納在工藝腔室內(nèi)的半導(dǎo)體硅晶圓的表面的溫度。實(shí)際上，硅晶圓制造中的每個工藝步驟都取決于晶圓溫度測量...
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