技術(shù)編號：40534346
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種光學(xué)鄰近預(yù)修正方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體光刻制程過程中，由于紫外光的衍射效應(yīng)，在將掩膜圖案投影到晶圓上時，晶圓表面形成的圖案經(jīng)常會發(fā)生畸變，這種現(xiàn)象稱為光學(xué)鄰近效應(yīng)（opticalproximity?effect，ope）。光學(xué)鄰近效應(yīng)引起的晶圓表面圖案畸變主要表現(xiàn)為線寬特征尺寸（critical?dimension，cd）偏移、線條端部（end?of?line，eol）變短、圖案缺失（missedpatterns）或橋接（br...
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