技術(shù)編號(hào):40547874
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,具體涉及一種用于半導(dǎo)體設(shè)備反應(yīng)腔的噴嘴裝置和半導(dǎo)體設(shè)備。背景技術(shù)、現(xiàn)有技術(shù)中的噴嘴組件主要通過(guò)將進(jìn)氣管的氣流經(jīng)環(huán)形圈擴(kuò)散后通過(guò)多個(gè)管道流到層狀勻氣空間,并通過(guò)該勻氣空間進(jìn)行二次分配,以使得氣體通過(guò)水平方向流入反應(yīng)腔內(nèi)。但是由于管道相對(duì)于該勻氣空間無(wú)法達(dá)到中心對(duì)稱,導(dǎo)致氣體在環(huán)形周向上出氣不均勻,影響后續(xù)工藝的穩(wěn)定性。、雖然現(xiàn)有技術(shù)公開(kāi)了可以通過(guò)在進(jìn)氣方向的垂直方向上進(jìn)行勻氣,但是如何做到極致的勻氣效果以及如何設(shè)置各個(gè)勻氣構(gòu)造都是一個(gè)值得探索的問(wèn)題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、為...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。