技術(shù)編號：40549381
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及掩膜版搬運，具體涉及一種適用于agv與光刻機進(jìn)行對接交互的裝置。背景技術(shù)、掩膜版(photo?mask)，又稱光罩掩膜版、光罩等，是一種用于微電子芯片制備的掩模工具，它是由光刻技術(shù)制備的。在制備過程中，首先需要將待制備的芯片設(shè)計圖案制作成透明的掩模。將掩模與半導(dǎo)體硅片結(jié)合，通過光刻機進(jìn)行曝光、顯影等一系列工藝過程，最終制備出微電子芯片。、光刻機是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體、平板顯示等行業(yè)中的核心技術(shù)。它主要通過光學(xué)成像技術(shù)將光掩膜版上的芯片設(shè)計圖案轉(zhuǎn)移到硅片表面，從而制備出具有所需...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。