技術(shù)編號(hào):40554002
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及壓印裝置,特別是涉及一種小型納米壓印裝置。背景技術(shù)、納米壓印光刻技術(shù)(nanoimprint?lithography,nil)是由美國(guó)明尼蘇達(dá)大學(xué)納米結(jié)構(gòu)實(shí)驗(yàn)室?stephen?y.zhou?教授于??年開(kāi)始進(jìn)行的開(kāi)創(chuàng)性研究,是一種全新微納米圖形化的方法,使用壓印模具通過(guò)抗蝕劑的受力變形實(shí)現(xiàn)其圖形化的一種新型技術(shù)。、隨著近幾年納米壓印技術(shù)的發(fā)展,越來(lái)越多的領(lǐng)域使用納米壓印裝置代替電子束光刻裝置。其主要應(yīng)用領(lǐng)域:高亮度光子晶體led、高密度磁盤(pán)介質(zhì)?(hdd)、光學(xué)元器件?(...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。