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技術(shù)編號：40554853

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本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于運(yùn)輸載體(特別是用于承載大面積基板的載體)的系統(tǒng)和方法。更具體地，本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于特別是在真空腔室中懸浮和運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)。特別地，本公開內(nèi)容的實(shí)施方式涉及用于運(yùn)輸載體的磁懸浮系統(tǒng)、磁懸浮系統(tǒng)的載體、磁懸浮系統(tǒng)的基座以及懸浮載體的方法。背景技術(shù)、用于在基板上進(jìn)行層沉積的技術(shù)包括例如濺射沉積、物理氣相沉積(pvd)、化學(xué)氣相沉積(cvd)和熱蒸發(fā)。經(jīng)涂覆的基板可用于若干應(yīng)用和若干技術(shù)領(lǐng)域中。例如，經(jīng)涂覆的基板可用于顯示裝置的領(lǐng)域中。顯示裝置可用于制造電...
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