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一種半導體不銹鋼TTN膜的清洗裝置及工藝的制作方法技術資料下載

技術編號:40565902

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本發(fā)明涉及一種半導體不銹鋼ttn膜的清洗裝置及工藝。背景技術、ti常用作粘附層,用于改善材料與基底的粘附性;作為阻擋層,ti防止銅等金屬在高溫下的擴散,tin常用于工具的硬質涂層,提高耐磨性和使用壽命。金屬ttn沉積采用常用的pvd方式,ttn裝置不銹鋼部件目前洗行業(yè)清洗的清洗工藝,主要采用一定比例的硝氟酸去除表面沉積物,濺射過程接近target位置的沉積物厚度要高于其它位置的厚度;所以,在浸泡過程中正常位置沉積物已經(jīng)清洗干凈,頂部接近target的位置沉積物還未清洗干凈,部件會選擇繼續(xù)浸泡,...
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