技術(shù)編號(hào)：40577744
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及擴(kuò)散爐，尤其涉及一種低壓擴(kuò)散爐管。背景技術(shù)、擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體生產(chǎn)線(xiàn)上不可或缺的關(guān)鍵設(shè)備，它利用高溫環(huán)境在硅片表面實(shí)現(xiàn)特定物質(zhì)的擴(kuò)散，從而形成所需的pn結(jié)，為集成電路、分立器件等電子產(chǎn)品的制造提供重要工藝支持。通過(guò)精確控制溫度、氣氛和擴(kuò)散時(shí)間，擴(kuò)散爐能夠確保半導(dǎo)體材料的高質(zhì)量和高性能，是半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的重要推動(dòng)力量。、擴(kuò)散爐在使用過(guò)程中確實(shí)會(huì)產(chǎn)生大量的廢氣，這些廢氣主要來(lái)源于燃燒過(guò)程、化學(xué)反應(yīng)過(guò)程以及材料加熱過(guò)程中產(chǎn)生的揮發(fā)物，在擴(kuò)散爐的工作過(guò)程中，特別是在高溫條件下，一些物質(zhì)如燃料、...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。