技術(shù)編號(hào)：40578118
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種輔助圖形修正方法、設(shè)備、介質(zhì)及產(chǎn)品。背景技術(shù)、在摩爾定律的推動(dòng)下，半導(dǎo)體行業(yè)正向著越來越小的特征尺寸發(fā)展，光刻工藝面臨前所未有的挑戰(zhàn)，尤其是圖案分辨率與工藝穩(wěn)定性的雙重壓力日益凸顯。為了應(yīng)對(duì)這些挑戰(zhàn)，亞分辨率輔助圖形(sub-resolution?assist?feature，sraf)技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，成為提升光刻分辨率、增強(qiáng)工藝窗口的關(guān)鍵手段。然而，在實(shí)際應(yīng)用中，現(xiàn)有技術(shù)在輔助圖形的修正環(huán)節(jié)缺乏足夠的適應(yīng)性和靈活性，難以在復(fù)雜多變的光刻環(huán)境中實(shí)現(xiàn)理想的修正效果，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。