技術(shù)編號：40580540
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請涉及掩模版制造，尤其涉及掩模版線邊修正方法、裝置、設(shè)備、存儲介質(zhì)及產(chǎn)品。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體制造過程中，掩模版的圖形質(zhì)量對最終產(chǎn)品的功能性和可靠性起著至關(guān)重要的作用。線邊粗糙度是衡量掩模版的圖形質(zhì)量的關(guān)鍵指標(biāo)之一。、理想的掩模版的圖形線邊應(yīng)當(dāng)展現(xiàn)出高度的平滑性，以確保光刻過程中圖案的精確轉(zhuǎn)移。但在實(shí)際的光刻和顯影工藝中，由于多種因素如材料不均勻性、設(shè)備精度限制、化學(xué)處理波動等的影響，常常會導(dǎo)致掩模版的圖形線邊出現(xiàn)不規(guī)則的波動，即線邊粗糙度的增加的情況?，F(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)掩模版出現(xiàn)大面積的圖形...
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