技術(shù)編號(hào)：40584043
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及半導(dǎo)體器件制造，更具體地說(shuō)，本技術(shù)涉及一種貼合無(wú)磨損防護(hù)的半導(dǎo)體光掩模版支架組件。背景技術(shù)、光刻技術(shù)是集成電路制造領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)之一，具體的，可以通過(guò)曝光，將掩模版上的掩模圖形按照一定比例成像到要加工的對(duì)象上，掩模版上形成有掩膜圖形，通過(guò)曝光的方式將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體襯底表面的光刻膠上，其中掩模版和光刻膠之間有透鏡，正是通過(guò)透鏡成像，使得掩膜圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上面，通過(guò)集成電路光刻機(jī)對(duì)所投影的電路進(jìn)行光蝕刻，其生產(chǎn)加工工序?yàn)椋浩毓?，顯影，去感光膠，最后應(yīng)用于光蝕刻。、專利申請(qǐng)公布號(hào)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。