技術(shù)編號：40585967
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種多組分復(fù)雜化合物的薄膜蒸鍍方法，同時也涉及相應(yīng)的薄膜蒸鍍設(shè)備，屬于薄膜蒸鍍。背景技術(shù)、物理氣相沉積(pvd)和化學(xué)氣相沉積(cvd)是兩種常見的鍍膜技術(shù)。pvd技術(shù)通常在真空環(huán)境下進行，通過物理方法將材料源(如固體或液體)轉(zhuǎn)化為氣態(tài)原子或分子，然后利用低壓氣體或等離子體將這些氣態(tài)原子或分子沉積在基體表面。而cvd技術(shù)則是將反應(yīng)物氣化，通過化學(xué)反應(yīng)直接在基底上沉積形成與反應(yīng)物不同的物質(zhì)。、閃爍體是一類重要的探測器材料，廣泛應(yīng)用于核物理、醫(yī)學(xué)成像和天文學(xué)等領(lǐng)域。自年發(fā)現(xiàn)鎢酸...
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