技術(shù)編號：40586497
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請涉及在基材表面形成薄膜的，特別是涉及成膜設(shè)備。背景技術(shù)、真空鍍膜設(shè)備，是一種在真空環(huán)境中利用物理或化學(xué)方法對基底進(jìn)行鍍膜的設(shè)備。相關(guān)技術(shù)中，真空鍍膜設(shè)備的基底支撐機(jī)構(gòu)和鍍膜材料提供機(jī)構(gòu)共同安裝在工藝腔內(nèi)部，且鍍膜材料提供機(jī)構(gòu)與基底支撐機(jī)構(gòu)之間的間距較小。真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行設(shè)備維護(hù)和清理較為困難，需要拆除部分結(jié)構(gòu)部件，維護(hù)時(shí)間耗費(fèi)較長，影響設(shè)備使用效率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、基于此，有必要針對真空鍍膜設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)困難的問題，提供一種成膜設(shè)備。、一種成膜設(shè)備，包括成膜單元；所述成膜單元包括：、安...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。