技術(shù)編號：40589095
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本技術(shù)涉及真空鍍膜，特別涉及一種全自動真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)、真空鍍膜的工作原理是在真空環(huán)境下，通過加熱靶材使其蒸發(fā)，并在電場的作用下，這些蒸發(fā)的原子或分子被加速并轟擊基片，從而在基片表面形成一層薄膜，這個過程涉及多種技術(shù)，包括物理氣相沉積、磁控濺射、離子鍍等。其中，物理氣相沉積技術(shù)使用低電壓、大電流的電弧放電，使靶材蒸發(fā)，而磁控濺射技術(shù)則通過磁場束縛和延長電子的運動路徑，提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量，從而加速靶材原子的濺射沉積。、目前，在真空鍍膜的過程中需要進行氣體輸送，氣體輸...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。