技術(shù)編號：40593945
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請涉及半導體檢測，尤其涉及一種圖像灰度校準方法、裝置、設(shè)備及存儲介質(zhì)。背景技術(shù)、在半導體先進工藝制造過程中，針對cd(critical?dimension關(guān)鍵尺寸)的精準量測是不可缺少的環(huán)節(jié)。因為sem(掃描電子顯微鏡)在成像上比起傳統(tǒng)的光學鏡具有更高的極限分辨率，所以在先進工藝制造過程中，通常采用sem來實現(xiàn)對集成電路關(guān)鍵尺寸的把控，從而進行良率監(jiān)控，這種精密設(shè)備被稱之為cd-sem。、cd-sem的基本原理是通過獲取圖像的灰度分布來確定圖像的輪廓信息，進而實現(xiàn)對不同種類樣品的量測目的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
請注意，此類技術(shù)沒有源代碼，用于學習研究技術(shù)思路。