技術(shù)編號(hào):40597082
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及光刻設(shè)備,具體地講,涉及一種雙面曝光機(jī)的單向移動(dòng)曝光機(jī)構(gòu)。背景技術(shù)、雙面曝光機(jī)是光刻技術(shù)中的重要設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、印刷電路板(pcb)生產(chǎn)等領(lǐng)域。傳統(tǒng)的曝光機(jī)通常采用單向移動(dòng)曝光機(jī)構(gòu),這種機(jī)構(gòu)在進(jìn)行雙面曝光時(shí)存在效率低下和精度不足的問題。不能進(jìn)行曝光燈的位置調(diào)節(jié),為了提高曝光效率和精度,需要一種新型的單向移動(dòng)曝光機(jī)構(gòu),能夠在保證曝光質(zhì)量的同時(shí),提高設(shè)備運(yùn)行的穩(wěn)定性和操作的便捷性。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本實(shí)用新型提供了一種雙面曝光機(jī)的單向移動(dòng)曝光機(jī)構(gòu),方便進(jìn)行曝光機(jī)的曝光用的led...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。