技術(shù)編號：40600170
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)中涉及拋光墊，特別涉及一種晶片拋光用的拋光墊。背景技術(shù)、拋光墊，又稱拋光皮、拋光布或拋光片，拋光墊通常由硬質(zhì)多孔聚氨酯泡沫制成，帶有狹窄的高縱橫比凹槽圖案，主要用于實現(xiàn)硅片、金屬、陶瓷等材料的平坦化拋光，在進行晶體加工的過程中，為了使晶體表面更加光滑亮麗就需要使用拋光墊進行加工。、現(xiàn)有技術(shù)中，如公開號cnu，公開的一種單晶片拋光用拋光墊，它包括單晶片加工技術(shù)領(lǐng)域，其技術(shù)方案要點是包括拋光層，拋光層的一側(cè)開設(shè)有呈放射狀分布的凹槽，凹槽遠(yuǎn)離拋光層中心的一側(cè)貫穿拋光層，拋光...
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