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技術(shù)編號(hào)：40602121

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本發(fā)明涉及光刻膠，特別是涉及一種co基有機(jī)配位納米顆粒及其制備方法、光刻膠組合物及其應(yīng)用。背景技術(shù)、光刻膠(photoresist)是指通過(guò)紫外光、電子束、粒子束、極紫外(extreme?ultra-violet,euv)或者軟x射線等的照射，使得溶解度發(fā)生變化的耐蝕薄膜材料。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進(jìn)步以及摩爾定律的發(fā)展，半導(dǎo)體制程隨之不斷減小，對(duì)加工的特征尺寸減小提出了更高的要求。為了滿足更先進(jìn)的半導(dǎo)體制程，實(shí)現(xiàn)更小的特征尺寸，光刻技術(shù)也在不斷發(fā)展，從i-線、g線、深紫外(deep?ultra...
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