技術(shù)編號(hào):40607941
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明的實(shí)施例涉及一種真空鍍膜設(shè)備,特別涉及一種細(xì)長(zhǎng)管件的真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)、在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備中,由于受限于弧源分布,造成在現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜細(xì)長(zhǎng)管件的時(shí)候,常常會(huì)因?yàn)榧?xì)長(zhǎng)管件較長(zhǎng)的尺寸,無(wú)法完全鍍膜均勻,造成鍍膜質(zhì)量很差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本發(fā)明的實(shí)施方式的目的在于提供一種能夠?qū)?xì)長(zhǎng)管件,實(shí)現(xiàn)完全鍍膜的細(xì)長(zhǎng)管件的真空鍍膜設(shè)備。、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明的實(shí)施方式設(shè)計(jì)了一種細(xì)長(zhǎng)管件的真空鍍膜設(shè)備,包括:、腔體結(jié)構(gòu);、分子泵控制裝置,在所述的腔體結(jié)構(gòu)的一側(cè)固定若干個(gè)所述的分子...
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