技術編號：40615749
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本公開內(nèi)容涉及襯底處理系統(tǒng)，更具體地說，涉及用于襯底處理系統(tǒng)的氣體管線的節(jié)流閥。背景技術、這里提供的背景描述是為了總體呈現(xiàn)本公開的背景的目的。在此背景技術部分中描述的范圍內(nèi)的當前指定的發(fā)明人的工作以及在提交申請時不能確定為現(xiàn)有技術的說明書的各方面既不明確也不暗示地承認是針對本公開的現(xiàn)有技術。、襯底處理系統(tǒng)可被使用于處理例如半導體晶片之類的襯底。襯底處理可包括沉積、蝕刻、清潔和其他處理?？稍谝r底上執(zhí)行的示例性處理包括但不限于化學氣相沉積(cvd)、原子層沉積(ald)、導體蝕刻、快速熱處理(r...
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