技術(shù)編號(hào)：40635640
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及拋光液，更具體地說，涉及一種用于碳化硅襯底dmp的多晶鉆石研磨液制備方法。背景技術(shù)、碳化硅襯底是一種用于制造半導(dǎo)體器件的基礎(chǔ)材料，它主要由碳化硅單晶體構(gòu)成，具有許多優(yōu)良的物理特性，使其在高功率、高頻率電子器件以及光電子器件的制造中得到廣泛應(yīng)用，碳化硅襯底在半導(dǎo)體制造中廣泛應(yīng)用，其表面研磨是確保半導(dǎo)體器件制備質(zhì)量的重要步驟之一。、多晶鉆石研磨液是一種用于精密研磨的液體磨料，其主要成分是多晶鉆石顆粒和醇基體系，它廣泛用于各種制造和加工行業(yè)，特別是在需要高精度和高硬度材料的應(yīng)用中，如半導(dǎo)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。