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缺陷工程介導(dǎo)的超低電位近紅外電化學(xué)發(fā)光體及其制備方法和應(yīng)用技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:40639717

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本發(fā)明屬于分析化學(xué)和臨床診斷領(lǐng)域,涉及超低電位近紅外電化學(xué)發(fā)光體的制備,具體是指缺陷工程介導(dǎo)的超低電位近紅外電化學(xué)發(fā)光體及其制備方法和應(yīng)用。背景技術(shù)、電化學(xué)發(fā)光(electrochemiluminescence),簡稱為ecl,是一種由電極界面觸發(fā)的高能電子轉(zhuǎn)移反應(yīng)產(chǎn)生發(fā)光體激發(fā)態(tài),躍遷回基態(tài)的過程,產(chǎn)生的輻射發(fā)光現(xiàn)象。因而,ecl分析技術(shù)是電化學(xué)和化學(xué)發(fā)光技術(shù)的結(jié)合,具有響應(yīng)快速,背景信號低,靈敏度高,易于集成化等優(yōu)點,是目前體外診斷領(lǐng)域的領(lǐng)先商業(yè)技術(shù)之一。開發(fā)和篩選高性能ecl發(fā)光體是ec...
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