技術(shù)編號：40642108
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開大體上涉及光學(xué)計(jì)量，且更特定來說，本公開涉及基于光學(xué)計(jì)量目標(biāo)的高分辨率評估的工藝控制。背景技術(shù)、光學(xué)計(jì)量可指基于使用光的計(jì)量，所述光通常包含紫外(uv)到紅外(ir)波長中的波長。許多光學(xué)計(jì)量技術(shù)依賴于具有經(jīng)設(shè)計(jì)以促進(jìn)測量的特征的專用計(jì)量目標(biāo)的測量。然而，基于此類目標(biāo)的測量準(zhǔn)確度可響應(yīng)于制造工藝的偏差而變化。因此，需要開發(fā)系統(tǒng)及方法來評估光學(xué)計(jì)量目標(biāo)。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、根據(jù)本公開的一或多個(gè)說明性實(shí)施例，公開一種計(jì)量系統(tǒng)。在一個(gè)說明性實(shí)施例中，所述系統(tǒng)包含耦合到光學(xué)計(jì)量子系統(tǒng)及額外計(jì)量子系統(tǒng)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。