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沉積設(shè)備的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):40652365

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本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體,特別是涉及沉積設(shè)備。背景技術(shù)、在半導(dǎo)體薄膜沉積領(lǐng)域中,需要通過(guò)載片舟將基片送入工藝腔體內(nèi),進(jìn)行加熱和工藝鍍膜。為了產(chǎn)能的增加,載片舟和沉積設(shè)備的體積不斷增加。但沉積設(shè)備體積的增加會(huì)導(dǎo)致設(shè)備內(nèi)部熱場(chǎng)均勻性的下降,成為了制約產(chǎn)能繼續(xù)增加的技術(shù)問(wèn)題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本申請(qǐng)的實(shí)施例提供沉積設(shè)備,能夠?yàn)檩d片舟提供均勻的熱場(chǎng)。、本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種沉積設(shè)備。沉積設(shè)備包括主體和加熱組件。主體具有工藝腔體。加熱組件包括設(shè)置第一加熱組件和第二加熱組件,第一加熱組件分別設(shè)置于主體第一方向上的相...
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