技術(shù)編號(hào)：40654316
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于直拉單晶，尤其是涉及一種單晶爐液面距控制方法、系統(tǒng)、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。背景技術(shù)、在直拉單晶生長過程中，為了使晶體能夠穩(wěn)定生長，硅液的液面與導(dǎo)流筒下沿的距離即液面距需要保持恒定。在現(xiàn)有技術(shù)中，通常在單晶爐爐蓋上安裝圖像監(jiān)控設(shè)備，對(duì)導(dǎo)流筒下沿的邊緣及其在液面上的倒影進(jìn)行拍攝，通過監(jiān)測(cè)導(dǎo)流筒下沿的邊緣與其倒影之間的間距的變化來控制液面距。但是當(dāng)導(dǎo)流筒下沿的邊緣與其倒影之間的間距過小時(shí)，無法進(jìn)行準(zhǔn)確監(jiān)測(cè)，導(dǎo)致無法根據(jù)此間距對(duì)液面距進(jìn)行控制。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。