技術(shù)編號：4228189
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種均勻可調(diào)送粉裝置。 背景技術(shù)在化學(xué)氣相沉積、激光熔覆與等離子噴涂等工藝中都涉及到粉體定量均勻輸送 的問題，其控制質(zhì)量大小與均勻性直接關(guān)系到工藝的成敗與涂層性能的優(yōu)劣。如在化學(xué)氣 相沉積工藝中，有多種原料常溫下是固體(如&C14、HfCl4, TaCl5, ZrF4, YBr3等)，有兩種 方法可以將原料送入反應(yīng)爐中，一是加熱氣化后引入爐中，該方法原料的利用率低，且容易 堵塞管道；二是直接將原料粉以固態(tài)的形式送入反應(yīng)爐，這種方法可以克服...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。