技術(shù)編號：4307774
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及微波等離子體處理裝置，特別是涉及在塑料容器上形成 化學(xué)蒸鍍膜時(shí)能夠使等離子體穩(wěn)定地、且高效率地發(fā)生的微波等離子體 處理裝置。背景技術(shù)化學(xué)蒸鍍法(CVD)是采用在常溫下不發(fā)生反應(yīng)的處理用氣體，利 用高溫氣氛中的氣相生長，在處理對象物的表面使反應(yīng)生成物膜狀析出 的技術(shù)，廣泛使用于半導(dǎo)體的制造、金屬和陶瓷的表面改性等。近來， 在CVD中，低壓等離子體CVD也廣泛使用于塑料容器的表面改性，特 別是使用于氣體阻擋層(gas barrier)性能的提高。等離...
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