技術(shù)編號(hào)：4325270
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型是有關(guān)于一種光罩盒，特別是有關(guān)于一種具有定位件的光品o背景技術(shù)近代半導(dǎo)體科技發(fā)展迅速，其中光學(xué)微影技術(shù)(Optical Lithography)扮 演重要的角色，只要是關(guān)于圖形(pattem)定義，皆需仰賴光學(xué)微影技術(shù)。 光學(xué)微影技術(shù)在半導(dǎo)體的應(yīng)用上，是將設(shè)計(jì)好的線路制作成具有特定形狀 可透光的光罩，利用曝光原理，則光源通過光罩投影至硅圓片(silicon wafer) 可曝光顯示特定圖案。由于任何在光罩上的微小損傷都會(huì)造成投影成像的 質(zhì)量劣化，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。