技術(shù)編號(hào)：4441150
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微光學(xué)元件加工技術(shù)，主要涉及一種用于熱壓印的連續(xù)浮雕陽(yáng)模的柵形止擋結(jié)構(gòu)，即止擋柵結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)微光學(xué)元件是制造小型光電子系統(tǒng)的關(guān)鍵元件。熱壓印結(jié)合反應(yīng)離子刻蝕技術(shù)可 實(shí)現(xiàn)石英材料連續(xù)浮雕微光學(xué)元件高精度、高重復(fù)性和低成本的批量加工。熱壓印(Hot Embossing Lithography, HEL)是納米壓印技術(shù)的一個(gè)分支，由 Stephen Y. Chou于1995年首次提出并提出專利申請(qǐng)，參見(jiàn)專利US5772905 "Nanoimprint...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。