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技術編號：4752568

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本發(fā)明涉及，本發(fā)明采用磁控濺射鍍膜 工藝在覆膜基體上沉積生成具有紅外反射層、吸收層、減反射層的太陽光譜選擇性吸收膜。背景技術現(xiàn)有的太陽光譜選擇性吸收涂層通常包括反射層、吸收層、減反射層。中國專利 01138135. 3公開了一種太陽光譜選擇性吸收涂層，包括反射層，吸收層，減反射層，其吸收 層是以鈦及合金鋁為陰極在氮氣、空氣、氮氣+氧氣氣氛中濺射而成的鋁氮+鈦氮_鋁鈦 [(AIN+TiN) -AlTil膜及鋁氮氧+鈦氮氧-鋁鈦[(AINO+TiNO) -Al...
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