技術編號：4902511
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種以規(guī)定的分壓比來輸出作用氣體的分壓控制系統(tǒng)、流量控制系統(tǒng)、以及分壓控制系統(tǒng)所使用的噴頭板。背景技術 一直以來，例如，在將作用氣體提供給晶片的流量控制系統(tǒng)中，為了均勻地對晶片提供作用氣體，要控制提供給晶片的中心區(qū)域和邊緣區(qū)域的作用氣體的流量。圖6是現(xiàn)有的流量控制系統(tǒng)100的概略構成圖。圖7和圖8是現(xiàn)有的噴頭板122的平面圖。流量控制系統(tǒng)100中，例如，流量控制裝置101A，101B，101C，101D分別連接O2，Ar，C4F8，CO等氣體供給...
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