技術(shù)編號：4902877
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于一種氣體噴射器，尤其是關(guān)于一種能夠在增大的面積上實(shí)現(xiàn)均勻氣體噴射的氣體噴射器。背景技術(shù) 為了跟上半導(dǎo)體裝置集成程度日益增加的發(fā)展，近來人們需要開發(fā)新的薄膜沉積技術(shù)。這種技術(shù)中具有代表性的一種是原子層沉積工藝過程。原子層沉積是一種通過交替地在一個(gè)基板上提供組成該薄膜的組成元素，因此為了沉積一個(gè)薄膜而交替地沉積其上的原子層，從而沉積成一薄膜的技術(shù)，而普通的化學(xué)氣相沉積(CVD)方法則是在一個(gè)基板上同時(shí)提供組成元素的材料。因此，對于這樣一種原子層沉積...
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