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技術(shù)編號(hào)：4971391

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本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及一種半導(dǎo)體制造企 業(yè)生產(chǎn)過程中的廢氣處理裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體制造過程中會(huì)產(chǎn)生大量的廢氣，例如，在利用化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝沉積多晶硅或二氣化硅層時(shí)要利用大量的硅烷(SiH4) 氣體或其它含硅氣體，用等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)工藝沉 積各種非晶硅、微晶硅和納米硅薄膜時(shí)也需要用到大量的硅烷氣體，此 外，摻雜和離子注入等工藝需要用到硼烷(B2H6)和磷烷(PH3)等氣體。 由于硅烷能在空氣中自燃，硼烷和磷烷也是...
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