技術編號：5015602
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。相關申請本申請要求2003年7月21日遞交的美國臨時申請第60/488,850號和2003年10月22日遞交的美國臨時申請第60/513,351號的權益。上述申請的全部教導引入本文作參考。 背景技術 氫化物氣體，尤其是氨氣在包括半導體和LEDs制造的許多工藝中使用。也使用其它的氫化物氣體，例如胂(AsH3)和膦(PH3)來制造例如砷化鎵(GaAs)和磷化鎵(GaP)的半導體薄膜，這些薄膜用于高速數(shù)據(jù)傳輸設備、蜂窩電話、視頻電話和商業(yè)衛(wèi)星。半導體制造中使用的...
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