技術(shù)編號(hào)：5035879
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及離子印跡聚合物，特別涉及高分子主鏈側(cè)接季銨鹽和席夫堿配體的多孔球形的過(guò)渡金屬離子印跡聚合物，用于過(guò)渡金屬離子的識(shí)別、分析檢測(cè)和分離富集，屬于功能高分子材料領(lǐng)域。背景技術(shù)印跡聚合物是指以某一特定的目標(biāo)分子或離子為模板，將結(jié)構(gòu)上具有互補(bǔ)性的功能單體通過(guò)相互作用(配位鍵、氫鍵、范德華力、靜電作用、疏水作用等)與模板結(jié)合，加入交聯(lián)劑進(jìn)行聚合反應(yīng)，反應(yīng)完成后，將模板洗脫出來(lái)，形成一種具有固定空穴大小和形狀，·高選擇識(shí)別再吸附模板的剛性聚合物材料，稱之為印跡...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。