技術(shù)編號(hào):5075689
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種通過(guò)從半導(dǎo)體的后處理步驟的背面研磨(back lapping)過(guò)程產(chǎn) 生的廢料漿中收集和提純硅粉以回收硅粉的方法,并且更特別地涉及采用以下過(guò)程回收硅 粉的方法用收集離心機(jī)從背面研磨過(guò)程產(chǎn)生的廢料漿中收集低純度硅粉;將從收集離心 機(jī)收集的硅粉與化學(xué)溶液混合以溶解雜質(zhì);并且通過(guò)使用提純離心機(jī)將與化學(xué)溶液混合的 硅粉提純?yōu)楦呒兌裙璺?。背景技術(shù)一般地,半導(dǎo)體晶片工藝通常被分為三大步驟制備步驟、前處理步驟和后處理步馬聚ο前處理步驟指的是通過(guò)將多種膜層壓...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。