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一種具有納米SiC薄膜的壓力傳感器的制備方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:5267067

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本發(fā)明涉及壓力傳感器的設(shè)計與制造領(lǐng)域,尤其涉及一種具有納米SiC薄膜的壓力傳感器的制備方法。背景技術(shù)SiC是Si和C唯一穩(wěn)定的化合物。SiC晶體的機械性能僅次于金剛石。 其抗腐蝕性非常強,在1500°C以下幾乎不受作用于任何實驗溶劑。常壓下不 能將其融化,大于2100°C時升華,分解為Si和C蒸汽。35個大氣壓下,2830°C 時發(fā)現(xiàn)SiC的轉(zhuǎn)熔點。SiC的飽和電子漂移速度是Si的2倍,其介電常數(shù)僅 高于金剛石,略高于GaN,均低于Si和GaAs等幾種常用...
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